| English |
Deutsch |
| nouns |
Substantive |
| deposition |
Ablagerung |
| deposition |
Abscheidung |
| deposition |
Lagerstätte |
| deposition |
Amtsenthebung |
| deposition |
Absetzung |
| deposition |
Entthronung |
| rate of deposition |
Ablagerungsgeschwindigkeit |
| deposition |
Ablagern |
| deposition |
Absetzen |
| deposition velocity |
Ablagerungsgeschwindigkeit |
| rate of deposition |
Ablagerungsrate |
| deposition rate |
Ablagerungsrate |
| deposition velocity |
Ablagerungsrate |
| deposition rate |
Ablagerungsgeschwindigkeit |
| chemical vapour deposition process |
CVD-Verfahren |
| deposition |
Deposition |
| ion-deposition printers |
Ionenbeschussdrucker |
| ion-deposition printer |
Ionenbeschussdrucker |
| absorber deposition |
Absorberauftragung |
| deposition heads |
Abscheideköpfe |
| deposition head |
Abscheidekopf |
| deposition equipment |
Abscheideanlage |
| deposition rate |
Abscheidungsrate |
| deposition rate |
Abscheiderate |
| deposition technique |
Abscheidungstechnik |
| deposition rate |
Abscheidungsgeschwindigkeit |
| reach of deposition |
Auflandungsstrecke |
| vapor deposition |
Aufdampfung |
| deposition |
Aufbringen |
| atomic layer deposition |
Atomlagenabscheidung |
| vapour deposition |
Metallisieren |
| vapour deposition |
Metallbedampfung |
| deposition of metal |
Metallabscheidung |
| deposition of metal |
Metallabscheiden |
| cladding by weld deposition |
Plattierungschweißen |
| cladding by weld deposition |
Schweißplattieren |
| deposition planes |
Absonderungsflächen |
| deposition planes |
Schichtflächen |
| deposition plane |
Schichtfläche |
| deposition plane |
Absonderungsfläche |
| deposition plane |
Ablösungsfläche |
| deposition planes |
Ablösungsflächen |
| sedimentary deposition |
Sedimentation |
| sedimentary deposition |
Sedimentbildung |
| sedimentary deposition |
Sedimentakkumulation |
| sedimentary deposition |
Sedimentablagerung |
| dust deposition |
Staubablagerung |
| dust deposition |
Staubdeposition |
| field deposition |
Freiflächendeposition |
| rate of deposition |
Immissionsrate |
| vapour deposition |
Gasphasenabscheidung |
| vapor deposition |
Gasphasenabscheidung |
| deposition plane |
Ablagerungsfläche |
| deposition areas |
Ablagerungsgebiete |
| deposition area |
Ablagerungsgebiet |
| deposition planes |
Ablagerungsflächen |
| rate of deposition |
Sedimentationsgeschwindigkeit |
| deposition |
Aussage |
| Slurry Deposition |
Schlickerbeschichten |
| usage |
Sprachgebrauch |
| acid deposition |
saurer Regen |
| atmospheric deposition of metals |
die atmosphärische Ablagerung von Metallen |
| dry deposition/dry fallout/dryfall of particles |
die trockene Ablagerung von Partikeln |
| acid/acidic deposition of sulphur dioxide |
die saure Ablagerung von Schwefeldioxid |
| deposition |
Aussage unter Eid |
| deposition |
eidesstattliche Aussage |
| vapour deposition |
Aufdampfen von Metall |
| electrolytic deposition of metal |
elektrolytische/galvanische/kathodische Metallabscheidung |
| chemical deposition of metal |
chemische Metallabscheidung |
| chemical vapour/vapor deposition |
chemische Gasphasenabscheidung |
| physical vapour/vapor deposition |
physikalische Dampfphasenabscheidung |
| Vacuum-vapour plant for the deposition of metal |
Apparate und Vorrichtungen zum Aufdampfen von Metall im Vakuum |
| Vapour deposition of metals |
Hochvakuumverdampfung (CVD/PVD) |
| Disc (target) with deposition material, consisting of molybdenum silicide |
:Platten (sogenannte Targets), bestehend aus Molybdänsilicid: |
| …of base metal or of metal carbides, coated or cored with flux material, of a kind used for soldering, brazing, welding or deposition of metal or of metal carbides; wire and rods, of agglomerated base metal powder, used for metal spraying |
…Metallen oder aus Metallcarbiden, mit Dekapier- oder Flussmitteln umhüllt oder gefüllt, zum Schweißen oder Löten oder zum Auftragen von Metall oder von Metallcarbiden; Drähte und Stäbe, aus agglomeriertem Pulver von unedlen Metallen, zum Metallisieren im Aufspritzverfahren |
| Iron or steel products obtained by electrolytic deposition, by pressure casting or by sintering are to be classified, according to their form, their composition and their appearance, in the headings of this chapter appropriate to similar hot-rolled products. |
Durch Elektrolyse, Druckgießen oder Sintern hergestellte Eisen- oder Stahlerzeugnisse sind je nach Form, Zusammensetzung und Aussehen den Positionen für die entsprechenden warmgewalzten Erzeugnisse zuzuweisen. |
| Cathodic Arc Deposition employs a consumable cathode of the material which forms the coating and has an arc discharge established on the surface by a momentary contact of a ground trigger. |
Bei der Kathodenzerstäubung durch Bogenentladung (Arc-Verdampfen) wird eine selbstverzehrende Kathode verwendet, die aus dem Beschichtungsmaterial besteht. Dabei wird durch den Momentkontakt einer geerdeten Zündelektrode auf der Kathodenoberfläche eine Lichtbogenentladung ausgelöst. |
| Metal organic chemical vapour deposition (MOCVD) reactors specially designed for compound semiconductor crystal growth by the chemical reaction between materials specified in 3C003 or 3C004; |
MOCVD-(Metal-Organic-Chemical-Vapour-Deposition-) Reaktoren, besonders konstruiert für das Kristallwachstum von Verbindungshalbleitern aus der chemischen Reaktion zwischen Substanzen (Materialien, Werkstoffen), die von Nummer 3C003 oder 3C004 erfasst werden, |
| Parts of apparatus for physical deposition by sputtering on liquid crystal devices (LCD) substrates |
Teile von Apparaten zum physikalischen Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen (LCD) durch Kathodenzerstäubung (sputtering) |
| Equipment for the vapour deposition of elements or compounds on heated filament substrates; |
Ausrüstung für die Beschichtung aus der Gasphase (VD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate, |
| Slurry Deposition is a surface modification coating or overlay coating process wherein a metallic or ceramic powder with an organic binder is suspended in a liquid and is applied to a substrate by either spraying, dipping or painting, subsequent air or… |
Schlickerbeschichten (Aufbringen von Schichten durch Aufschlämmen) ist ein Verfahren zur Herstellung von oberflächenverändernden Schichten oder Auflageschichten, bei dem ein Metall- oder Keramikpulver zusammen mit einem organischen Binder in einer Flüssigkeit suspendiert und durch Aufspritzen, Tauchen oder Aufpinseln auf ein Substrat aufgebracht wird. Die gewünschte… |
| Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating) |
Ionenunterstütztes PVD-Beschichten mittels Widerstandsheizung (PVD-Ionenplattieren) |
| Parts and accessories for apparatus for chemical vapour deposition on liquid crystal devices (LCD) substrates |
Teile und Zubehör für Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen (LCD) durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD-Verfahren) |
| Note:2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment specially designed for cutting or machining tools. |
Anmerkung:Nummer 2B005 erfasst nicht Ausrüstung für chemische Beschichtung aus der Gasphase, Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Ionenplattierung oder Ionenimplantation, besonders konstruiert für Schneidwerkzeuge oder für Werkzeuge zur spanenden Bearbeitung. |
| Physical Vapour Deposition (PVD): Cathodic Arc Discharge |
Physikalische Abscheidung aus der Gasphase (PVD): Kathodenzerstäubung durch Bogenentladung (Arc-Verdampfen) |
| Sputter Deposition is an overlay coating process based on a momentum transfer phenomenon, wherein positive ions are accelerated by an electric field towards the surface of a target (coating material). |
Kathodenzerstäubungsbeschichtung (Sputtern/Aufstäuben) ist ein Verfahren zur Herstellung von Auflageschichten, das auf dem Prinzip der Impulsübertragung beruht. Dabei werden positiv geladene Ionen mit Hilfe eines elektrischen Feldes auf die Oberfläche eines Targets (Beschichtungsmaterial) geschossen. |
| Sputter Deposition |
Kathodenzerstäubungsbeschichtung (Sputtern/Aufstäuben) |
| Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for non-electronic substrates, by processes shown in the Table and associated Notes following 2E003.f… |
:Ausrüstung, besonders konstruiert für die Abscheidung, Bearbeitung und Verfahrenskontrolle von anorganischen Auflageschichten, sonstigen Schichten und oberflächenverändernden Schichten, wie folgt, auf Substrate für nichtelektronische Anwendungen durch Verfahren, die in der nach Unternummer 2E003f aufgeführten Tabelle nebst zugehörigen… |
| Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or |
thermische Beschichtung mit geregelter Keimbildung (CNTD = controlled nucleation thermal deposition) oder |
| Chemical Vapour Deposition (CVD) |
Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) |
| Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate. |
Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) ist ein Verfahren zum Aufbringen von Auflageschichten oder oberflächenverändernden Schichten, bei dem ein Metall, eine Legierung, ein "Verbundwerkstoff", ein Dielektrikum oder Keramik auf einem erhitzten Substrat abgeschieden wird. |
| Table — Deposition techniques — Notes |
Anmerkungen zur Tabelle — Abscheidungsverfahren: |
| The use of ion or electron beams, or plasma, to activate or assist the coating's deposition is also a common modification in this technique. |
Die Verwendung von Ionen- oder Elektronenstrahlen oder von Plasma zur Einleitung oder Förderung des Abscheidungsvorgangs ist ebenfalls eine übliche Variante dieses Verfahrens. |
| Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporize the coating material. |
Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen (TE-PVD = thermal evaporation physical vapour deposition) ist ein Beschichtungsverfahren zur Herstellung von Auflageschichten in einem Vakuum bei einem Druck von weniger als 0,1 Pa, wobei Wärmeenergie zum Verdampfen des Schichtwerkstoffes eingesetzt wird. |
| Thermal-Evaporation Physical Vapour Deposition (TE-PVD) |
Physikalische Beschichtung aus der Gasphase (PVD-Beschichten) durch thermisches Verdampfen (TE-PVD) |
| Gaseous reactants are decomposed or combined in the vicinity of a substrate resulting in the deposition of the desired elemental, alloy or compound material on the substrate. |
Gasförmige Reaktanten werden im oberflächennahen Bereich eines Substrats zersetzt oder verbunden, wobei der gewünschte Schichtstoff als Element, Legierung oder Verbindung auf dem Substrat abgeschieden wird. |
| Substrate biasing is used for non line-of-sight deposition. |
Bei nicht geradliniger Abscheidung wird an das Substrat eine Vorspannung angelegt. |
| This process results in the condensation, or deposition, of the evaporated species onto appropriately positioned substrates. |
Bei diesem Verfahren wird das dampfförmige Beschichtungsmaterial durch Kondensation oder Abscheidung auf entsprechend positionierten Substraten aufgebracht. |
| This includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition. |
Dies schließt Verfahren ein, bei denen neben der Ionenimplantation gleichzeitig das PVD-Beschichten mittels Elektronenstrahl und das Sputtern/Aufstäuben zur Anwendung kommen. |
| Apparatus for physical deposition by sputtering on liquid crystal devices (LCD) substrates |
Apparate zum physikalischen Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen (LCD) durch Kathodenzerstäubung (sputtering) |
| Apparatus for chemical vapour deposition on liquid crystal devices (LCD) substrates |
Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen (LCD) durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD-Verfahren) |
| Deutsch |
English |
| Substantive |
nouns |
| Deposition |
deposition |
| Sprachgebrauch |
usage |
| MOCVD-(Metal-Organic-Chemical-Vapour-Deposition-) Reaktoren, besonders konstruiert für das Kristallwachstum von Verbindungshalbleitern aus der chemischen Reaktion zwischen Substanzen (Materialien, Werkstoffen), die von Nummer 3C003 oder 3C004 erfasst werden, |
Metal organic chemical vapour deposition (MOCVD) reactors specially designed for compound semiconductor crystal growth by the chemical reaction between materials specified in 3C003 or 3C004; |
| thermische Beschichtung mit geregelter Keimbildung (CNTD = controlled nucleation thermal deposition) oder |
Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or |
| Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen (TE-PVD = thermal evaporation physical vapour deposition) ist ein Beschichtungsverfahren zur Herstellung von Auflageschichten in einem Vakuum bei einem Druck von weniger als 0,1 Pa, wobei Wärmeenergie zum Verdampfen des Schichtwerkstoffes eingesetzt wird. |
Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporize the coating material. |
| :Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapour deposition) mit allen folgenden Eigenschaften: |
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following |
| Herstellungsausrüstung für die Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung (cathodic arc deposition), die über ein Gitter aus Elektromagneten zur Steuerung des Auftreffpunkts des Lichtbogens auf der Kathode verfügt; |
Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode; |
| Thermische Zersetzung mit geregelter Keimbildung (controlled nucleation thermal deposition) |
chemical reaction by isotope selective laser activation |
| Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) |
chemical warfare CW (for lasers) |
| :Herstellungsausrüstung für die physikalische Beschichtung aus der Dampfphase (PVD = physical vapour deposition) mittels Elektronenstrahl (EB-PVD) mit einer Stromversorgungsanlage von mehr als 80 kW Nennleistung und mit einer der folgenden Eigenschaften: |
electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over80 kW and having any of the following |
| 2 „Bulk“-Deposition |
2 bulk deposition |
| …direkte Applikation, Sprühmittelabtrift, Ablauf, Entwässerung, Abfallentsorgung, Industrie-, Haushalts- oder Landwirtschaftsabwässer oder über atmosphärische Deposition, und können in diesen Gewässern durch chemische (z. B. Hydrolysereaktionen, Oxidation), fotochemische und/oder mikrobielle Prozesse umgewandelt werden. |
…spray drift, run-off, drainage, waste disposal, industrial, domestic or agricultural effluent and atmospheric deposition and may be transformed in those waters by chemical (e.g. hydrolysis, oxidation), photochemical and/or microbial processes. |
| Chemical vapour deposition (Chemische Beschichtung aus der Gasphase) |
chemical reaction by isotope selective laser activation CVD |
| Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) |
chemical reaction by isotope selective laser activation CVD |
| Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapor deposition); |
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment; |
| Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) |
EB-PVD electron beam physical vapour deposition EBU |
| Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen (electron beam physical vapour deposition) |
ETSI European Telecommunications Standards Institute FFT |
| …erforderlich sind, um die Exposition von Nichtziel-Organismen zu begrenzen, sind Modellberechnungen für die infolge der Verflüchtigung entstehende Deposition außerhalb der Zielfläche (PEC) vorzulegen. |
…measures are required to reduce exposure to non-target organisms, model calculations of off-site deposition (PEC) originating from volatilisation shall be provided. |
| Erforderlichenfalls können Experimente zur Bestimmung der Deposition nach Verflüchtigung vorgelegt werden. |
If needed, experiments to determine deposition following volatilisation may be provided. |
| Einträge von Düngemitteln und anderen stickstoff- und phosphorhaltigen Stoffen (z. B. aus Punktquellen oder diffusen Quellen einschließlich Landwirtschaft, Aquakultur, atmosphärische Deposition); |
Inputs of fertilisers and other nitrogen — and phosphorus-rich substances (e.g. from point and diffuse sources, including agriculture, aquaculture, atmospheric deposition), |
| Thermische Zersetzung mit geregelter Keimbildung (controlled nucleation thermal deposition) |
International Telegraph and Telephone Consultative Committee CDU |
| Controlled nucleation thermal deposition (Thermische Zersetzung mit geregelter Keimbildung) |
International Telegraph and Telephone Consultative Committee CDU |
| Eintrag nicht synthetischer Stoffe und Verbindungen (z. B. Schwermetalle, Kohlenwasserstoffe, z. B. durch Verschmutzungen durch Schiffe sowie die Erforschung und Ausbeutung von Öl-, Gas- und Erzvorkommen, atmosphärische Deposition, Einträge aus Flüssen); |
introduction of non-synthetic substances and compounds (e.g. heavy metals, hydrocarbons, resulting, for example, from pollution by ships and oil, gas and mineral exploration and exploitation, atmospheric deposition, riverine inputs), |
| …Bewuchshemmer, Arzneimittel, z. B. durch Verluste aus diffusen Quellen, Verschmutzung durch Schiffe, atmosphärische Deposition sowie biologisch aktive Stoffe); |
…antifoulants, pharmaceuticals, resulting, for example, from losses from diffuse sources, pollution by ships, atmospheric deposition and biologically active substances), |
| NH4-Messung in Gebieten mit hoher NHx-Deposition (über 20 kg NHx pro ha/Jahr) empfehlenswert. |
Measurement of NH4 is advised in areas with high NHx deposition (above 20 kg NHx per ha per year). |
| Die Streufallmessung ist lediglich auf Level-II-Beobachtungsflächen durchzuführen, auf denen auch eine intensive Überwachung der meteorologischen Bedingungen, der Deposition, des Bodenwassers und der Phänologie erfolgt. |
Litterfall assessment shall be carried only on Level II monitoring plots where intensive monitoring of meteorology, deposition, soil water, and phenology are also performed. |
| Die Überwachung kann auf einer Freifläche durchgeführt werden, vorzugsweise dort, wo die Sammler für die „Wet-only“-Deposition und die meteorologischen Messgeräte installiert sind. |
Monitoring can be carried out in an open field, preferably where the samplers for wet deposition and the meteorological equipment are installed. |
| Untersuchungen zu Rückständen oder Deposition sind nur bei den Zusatzstoffen erforderlich, die zur Funktionsgruppe „Vitamine, Provitamine und chemisch definierte Stoffe mit ähnlicher Wirkung“ gehören und über ein Potenzial der Akkumulation im Körper verfügen, sowie bei der… |
Residue or deposition studies are only required for those additives that fall within the functional group ‘vitamins, pro-vitamins and chemically well-defined substances, having similar effect’ that have a potential for accumulation in the body and for the… |
| Herstellungsausrüstung für die physikalische Beschichtung aus der Dampfphase (PVD = physical vapor deposition); |
Physical vapour deposition (PVD) production equipment; |
| "speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung (cathodic arc deposition), die über ein Gitter aus Elektromagneten zur Steuerung des Auftreffpunkts des Lichtbogens auf der Kathode verfügt; |
"Stored programme controlled" cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode; |
| :"speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapour deposition) mit allen folgenden Eigenschaften: |
"Stored programme controlled" chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following |
| :"speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die physikalische Beschichtung aus der Dampfphase (PVD = physical vapour deposition) mittels Elektronenstrahl (EB-PVD) mit einer Stromversorgungsanlage von mehr als 80 kW Nennleistung und mit einer der folgenden Eigenschaften: |
"Stored programme controlled" electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW, having any of the following |
| …der PECSW-Werte beziehen sich auf die direkte und indirekte Anwendung in Gewässern, Abdrift, Oberflächenabfluss, Ableitung durch die Drainagen und atmosphärische Deposition, und sie schließen Prozesse wie die Verdunstung, die Adsorption, die Advektion, die Hydrolyse, die Photolyse, den biologischen Abbau, die Sedimentation und die… |
…PECSW estimations relate to direct application to water, drift, run-off, discharge via drains and atmospheric deposition, and include processes such as volatilisation, adsorption, advection, hydrolysis, photolysis, biodegradation, sedimentation and re… |
| …PECSW- und PECSED-Werte beziehen sich auf die direkte Anwendung in Gewässern, Abdrift, Abschwemmung, Ableitung durch die Drainagen und atmosphärische Deposition, und sie schließen Prozesse wie die Verflüchtigung, die Adsorption, die Advektion, die Hydrolyse, die Fotolyse, den biologischen Abbau, die… |
…PECSW and PECSED estimations relate to direct application to water, drift, run-off, discharge via drains and atmospheric deposition, and include processes such as volatilisation, adsorption, advection, hydrolysis, photolysis, biodegradation… |
| Deposition über die Luft; |
deposit in the atmosphere; |
| Deposition von Pflanzenschutzmittel enthaltendem Staub durch Abdrift bei der Aussaat, |
deposition of dust containing plant protection products by drift during sowing, |
| 3 „Wet-only“-Deposition |
3 wet-only deposition |
| „Gesamtablagerung oder bulk deposition“ |
‘total or bulk deposition’ |
| Erforderlichenfalls sind die Ergebnisse von Labor-, Windkanal- oder Freilandexperimenten zur Bestimmung von PECS-Werten aufgrund von Deposition nach Verflüchtigung sowie entsprechende Minderungsmaßnahmen vorzulegen. |
Where relevant, laboratory, wind-tunnel or field experiments to determine PECS from deposition following volatilisation and mitigation measures shall be provided. |
