| Deutsch |
English |
| Sprachgebrauch |
usage |
| Ausrüstung für die Beschichtung aus der Gasphase (VD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate, |
Equipment for the vapour deposition of elements or compounds on heated filament substrates; |
| Anmerkung:Nummer 2B005 erfasst nicht Ausrüstung für chemische Beschichtung aus der Gasphase, Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Ionenplattierung oder Ionenimplantation, besonders konstruiert für Schneidwerkzeuge oder für Werkzeuge zur spanenden Bearbeitung. |
Note:2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment specially designed for cutting or machining tools. |
| Physikalische Abscheidung aus der Gasphase (PVD): Kathodenzerstäubung durch Bogenentladung (Arc-Verdampfen) |
Physical Vapour Deposition (PVD): Cathodic Arc Discharge |
| Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) |
Chemical Vapour Deposition (CVD) |
| Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) ist ein Verfahren zum Aufbringen von Auflageschichten oder oberflächenverändernden Schichten, bei dem ein Metall, eine Legierung, ein "Verbundwerkstoff", ein Dielektrikum oder Keramik auf einem erhitzten Substrat abgeschieden wird. |
Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate. |
| Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen (TE-PVD = thermal evaporation physical vapour deposition) ist ein Beschichtungsverfahren zur Herstellung von Auflageschichten in einem Vakuum bei einem Druck von weniger als 0,1 Pa, wobei Wärmeenergie zum Verdampfen des Schichtwerkstoffes eingesetzt wird. |
Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporize the coating material. |
| Physikalische Beschichtung aus der Gasphase (PVD-Beschichten) durch thermisches Verdampfen (TE-PVD) |
Thermal-Evaporation Physical Vapour Deposition (TE-PVD) |
| Ausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate zur Fertigung von Siliziumkarbidfasern, |
equipment for the chemical vapour deposition of elements or compounds on heated filamentary substrates to manufacture silicon carbide fibres; |
| :Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapour deposition) mit allen folgenden Eigenschaften: |
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following |
| Öfen zur chemischen Beschichtung aus der Gasphase (CVD), die nicht von Unternummer 2B005a erfasst werden, konstruiert oder geändert für die Verdichtung von Kohlenstoff-Kohlenstoff-"Verbundwerkstoffen". |
Chemical vapour deposition (CVD) furnaces, other than those specified in 2B005.a., designed or modified for the densification of carbon-carbon composites. |
| Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) |
chemical warfare CW (for lasers) |
| Die Herbeiführung der Sättigung in der Gasphase ist von entscheidender Bedeutung. |
Achieving saturation in the gas phase is of critical importance. |
| Die Anordnung sollte so ausgelegt werden, dass während der Messung die Temperatur sowohl der Prüflösung wie auch die der sich über deren Oberfläche befindlichen Gasphase konstant bleiben und die Probe nicht verdampfen kann. |
It shall be designed so that during the measurement the temperature of the test solution liquid and the gas phase above its surface remains constant and that the sample cannot evaporate. |
| Chemical vapour deposition (Chemische Beschichtung aus der Gasphase) |
chemical reaction by isotope selective laser activation CVD |
| Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) |
chemical reaction by isotope selective laser activation CVD |
| Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapor deposition); |
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment; |
| Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) |
EB-PVD electron beam physical vapour deposition EBU |
| Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen (electron beam physical vapour deposition) |
ETSI European Telecommunications Standards Institute FFT |
| Katalytische Dehalogenierung in der Gasphase |
Gas phase catalytic dehalogenation |
| …auf der Gledhill-Methode (8) basiert, wird das Reaktionsgefäß geschüttelt und atmosphärisch verschlossen. Das gebildete CO2 wird direkt aus der Gasphase in einem Alkali-Abscheider aufgefangen, wie bei den klassischen Warburg/Barcroft-Respirometer-Kolben. |
…s method (8), the shaken reaction vessel is closed to the atmosphere and CO2 produced is collected in an internal alkaline trap directly from the gaseous phase, as in classical Warburg/Barcroft respirometer flasks. |
| Erfolgt die Exposition des Menschen hauptsächlich über die Gasphase, so kann es zweckmäßiger sein, Inhalationsversuche anstelle oraler Versuche durchzuführen. |
In cases where exposure of humans is mainly by the gas phase, it can be more appropriate to perform some of the studies via inhalation. |
| Erfolgt die Exposition hauptsächlich über die Gasphase, so kann es zweckmäßiger sein, Inhalationsversuche anstelle oraler Versuche durchzuführen. |
In cases where exposure is mainly by the gas phase, it can be more appropriate to perform inhalation studies instead of oral studies. |
| Bei diesem Verfahren werden die Berechnungen wie in Gleichung [1] beschrieben durchgeführt; der vernachlässigbar kleine IC-Gehalt in der Gasphase wird jedoch ignoriert, so dass VH |
In this method calculations are performed as in Equation [1], but the negligible amount of IC in the gaseous phase is ignored, that is VH |
| ist elementarer Quecksilberdampf (Hg0) und reaktives gasförmiges Quecksilber, d. h. wasserlösliche Quecksilberverbindungen mit ausreichend hohem Dampfdruck, um in der Gasphase zu existieren. |
means elemental mercury vapour (Hg0) and reactive gaseous mercury, i.e. water-soluble mercury species with sufficiently high vapour pressure to exist in the gas phase. |
| …das CO2 im Headspace nach Ansäuerung und Herstellung eines Gleichgewichtszustands bestimmt, während bei letztgenannter Methode (14) der DIC sowohl in der Gasphase als auch in der Flüssigphase ohne Behandlung bestimmt wird; über 90 % des gebildeten IC befanden sich in der Flüssigphase. |
…is measured in the headspace after acidification and equilibration, while in the latter (14) DIC in both the gaseous and liquid phases was measured, without treatment; over 90 % of the IC formed was present in the liquid phase. |
| Die Sättigung der Gasphase kann eine beträchtliche Kontaktzeit und entsprechend verhältnismäßig geringe Gasdurchflüsse erfordern (25). |
Saturation of the gas phase may require considerable contact time and hence quite low gas flow rates (25). |
| Nach Ansäuerung auf pH < 3 und Einstellung des Gleichgewichts kommt es zu einem Ausgleich zwischen der TIC-Konzentration in der Flüssigphase und der TIC-Konzentration in der Gasphase. Daher muss in diesem Fall nur die IC-Konzentration in der Gasphase bestimmt werden. |
Since acidification to pH < 3 and equilibration results in the equalisation of the concentration of TIC in the liquid and gaseous phases, only the concentration of IC in the gas phase needs to be measured. |
| :"speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapour deposition) mit allen folgenden Eigenschaften: |
"Stored programme controlled" chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following |
| Die Analyse basiert auf Luftproben, die durch eine semi-permeable Membran in eine Ionisationskammer geleitet werden. Dort gibt eine Ionisierungsquelle Betateilchen ab, wodurch in der Gasphase Ionen entstehen. |
The analysis is based on samples of air which pass through a semi-permeable membrane and enter an ionisation chamber where an ionisation source emits beta particles resulting in ion formation in the gaseous phase. |
| Öfen zur chemischen Beschichtung aus der Gasphase (CVD), die nicht von Unternummer 2B005a erfasst werden, konstruiert oder geändert für die Verdichtung von Kohlenstoff-Kohlenstoff-"Verbundwerkstoffen". |
CVD furnaces, other than those specified in 2B005.a., designed or modified for the densification of carbon-carbon composites. |
| Die Werte beziehen sich auf die Summe der Metalle in den Abgasen sowohl in der festen Phase als auch in der Gasphase. |
The levels refer to the sum of metals present in the flue-gases in both solid and gaseous phases. |
