| English |
Deutsch |
| nouns |
Substantive |
| vapour |
Dampf |
| water vapour |
Wasserdampf |
| vapour |
Dunst |
| vapour |
Ausdünstung |
| vapour pressure |
Dampfdruck |
| vapour burner |
Brüdenbrenner |
| vapour trail |
Kondensstreifen |
| vapour density |
Dampfdichte |
| vapour glazing |
Salzglasur |
| vapour glazing |
Anflugglasur |
| chemical vapour deposition process |
CVD-Verfahren |
| dissociation of water vapour |
Wasserdampfspaltung |
| vapour-galvanising |
Sherard-Verzinken |
| vapour-galvanising |
Dampfverzinken |
| vapour phase |
Dampfphase |
| vapour barrier |
Dampfsperre |
| vapour barriers |
Dampfsperren |
| vapour-galvanising |
Sheradisieren |
| exhaust vapour |
Brüden |
| vapour precipitators |
Brüdenfilter |
| vapour ESP |
Brüdenfilter |
| vapour precipitator |
Brüdenfilter |
| vapour ESPs |
Brüdenfilter |
| vapour fan |
Brüdenventilator |
| vapour burners |
Brüdenbrenner |
| vapour fans |
Brüdenventilatoren |
| petrol vapour |
Benzingase |
| bath vapour |
Badnebel |
| vapour |
Brodem |
| vapour deposition |
Metallisieren |
| vapour deposition |
Metallbedampfung |
| saturated vapour pressure |
Sättigungsdruck |
| liquid-vapour equilibrium diagram |
Siedediagramm |
| liquid-vapour equilibrium diagram |
Siedepunktdiagramm |
| liquid-vapour equilibrium diagram |
Siedekurve |
| vapour |
Verdampfung |
| water vapour content |
Wasserdampfgehalt |
| water vapour pressure |
Wasserdampfdruck |
| water vapour uptake |
Wasserdampfaufnahme |
| aqueous vapour |
Wasserdampf |
| vapour deposition |
Gasphasenabscheidung |
| flux-deriving vapour |
Flussmitteldampf |
| liquid-vapour-equilibrium |
Flüssigkeit-Dampf-Gleichgewicht |
| vapour pressure curve |
Dampfdruckkurve |
| vapour |
Wasserdampf |
| Steam turbines and other vapour turbines |
Dampfturbinen |
| Steam or other vapour generating boilers |
Dampfkessel |
| usage |
Sprachgebrauch |
| vapour-galvanising |
Zinkeinbrennen im Drehofen |
| vapour deposition |
Aufdampfen von Metall |
| entrainment of a boiling liquid by the vapour |
Mitnahme einer kochenden Flüssigkeit durch den Dampf |
| mercury-vapour lamp /MV/ |
Quecksilberdampflampe /HQL/ |
| in the vapour state |
dampfförmig |
| to vapour-galvanise sth. |
etw. dampfverzinken |
| to vapour-galvanise sth. |
sherard-verzinken |
| to vapour-galvanise sth. |
sheradisieren |
| in the vapour state |
dampfig |
| vapour-permeable |
diffusionsoffen |
| chemical vapour/vapor deposition |
chemische Gasphasenabscheidung |
| physical vapour/vapor deposition |
physikalische Dampfphasenabscheidung |
| Do not breathe gas/fumes/vapour/spray. |
Gas/Rauch/Dampf/Aerosol nicht einatmen. |
| Avoid breathing vapour even if the smell is not perceptible. |
Dämpfe nicht einatmen, auch wenn kein Geruch wahrnehmbar. |
| In use, may form flammable/explosive vapour-air mixture. |
Bei Gebrauch Bildung explosionsfähiger / leicht entzündlicher Dampf-Luftgemische möglich. |
| Vapour-air mixture / Gas-air mixture explosive. |
Dampf-Luftgemisch / Gas-Luftgemisch explosionsfähig. |
| Harmful vapour and dust. |
Gesundheitsschädlicher Dampf und Staub. |
| Condensers for steam or other vapour power units |
Kondensatoren für Dampfkraftmaschinen |
| Vacuum-vapour plant for the deposition of metal |
Apparate und Vorrichtungen zum Aufdampfen von Metall im Vakuum |
| Steam or other vapour generating boilers (other than central heating hot water boilers capable also of producing low pressure steam); super-heated water boilers |
Dampfkessel (Dampferzeuger), ausgenommen Zentralheizungskessel, die sowohl heißes Wasser als auch Niederdruckdampf erzeugen können; Kessel zum Erzeugen von überhitztem Wasser |
| Parts of vapour generating boilers and super-heater water boilers |
Teile von Dampfkesseln und Kesseln zum Erzeugen von überhitztem Wasser |
| Parts for steam turbines and other vapour turbines |
Teile von Dampfturbinen |
| Vapour deposition of metals |
Hochvakuumverdampfung (CVD/PVD) |
| Auxiliary plant for use with boilers of heading 8402 or 8403 (for example, economisers, superheaters, soot removers, gas recoverers); condensers for steam or other vapour power units |
Hilfsapparate für Kessel der Position 8402 oder 8403 (z. B. Vorwärmer, Überhitzer, Rußbläser und Rauchgasrückführungen); Kondensatoren für Dampfkraftmaschinen |
| Other vapour generating boilers, including hybrid boilers |
andere Dampfkessel, einschließlich kombinierte Kessel (Hybridkessel) |
| Dust obtained by condensation of zinc vapour, consisting of spherical particles which are finer than zinc powders. |
Staub, der durch Kondensieren von Zinkdämpfen gewonnen wird und aus kugelförmigen Partikeln besteht, die feiner als beim Pulver sind. |
| Mercury or sodium vapour lamps; metal halide lamps |
Quecksilber- oder Natriumdampflampen; Halogen-Metalldampflampen |
| Thermionic, cold cathode or photocathode valves and tubes (for example, vacuum or vapour or gas filled valves and tubes, mercury arc rectifying valves and tubes, cathode ray tubes, television camera tubes) |
Glühkathoden-, Kaltkathoden- und Fotokathoden-Elektronenröhren (z. B. Vakuumröhren, dampf- oder gasgefüllte Röhren, Quecksilberdampfgleichrichterröhren, Kathodenstrahlröhren und Bildaufnahmeröhren für Fernsehkameras) |
| Steam or other vapour power engines |
Dampfkraftmaschinen für Wasserdampf oder anderen Dampf |
| Metal organic chemical vapour deposition (MOCVD) reactors specially designed for compound semiconductor crystal growth by the chemical reaction between materials specified in 3C003 or 3C004; |
MOCVD-(Metal-Organic-Chemical-Vapour-Deposition-) Reaktoren, besonders konstruiert für das Kristallwachstum von Verbindungshalbleitern aus der chemischen Reaktion zwischen Substanzen (Materialien, Werkstoffen), die von Nummer 3C003 oder 3C004 erfasst werden, |
| Equipment and components, specially designed or prepared for atomic vapour "laser" isotope separation process (AVLIS), as follows |
:Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für Anlagen zur Isotopentrennung nach dem atomaren "Laser"verfahren (AVLIS = Atomic Vapour Laser Isotope Separation), wie folgt: |
| Product and tails collectors made of or protected by materials resistant to the heat and corrosion of uranium vapour such as yttria-coated graphite or tantalum; |
Product(angereichertes Uran)- und Tails("abgereichertes Uran")-Sammler, hergestellt aus oder geschützt mit Materialien, die wärme- und korrosionsbeständig gegenüber Urandampf sind, wie yttriumoxid(Y2O3)-beschichteter Grafit oder Tantal, |
| Equipment for the vapour deposition of elements or compounds on heated filament substrates; |
Ausrüstung für die Beschichtung aus der Gasphase (VD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate, |
| Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating) |
Ionenunterstütztes PVD-Beschichten mittels Widerstandsheizung (PVD-Ionenplattieren) |
| Ion sources, single or multiple, consisting of a vapour source, ioniser, and beam accelerator made of suitable non-magnetic materials (e.g. graphite, stainless steel, or copper) and capable of providing a total ion beam current of 50 mA or greater; |
Einzel- oder Mehrfach-Ionenquellen, die eine Strahlquelle enthalten, Ionisierer und Strahlbeschleuniger, hergestellt aus geeigneten Materialien (z. B. Grafit, Edelstahl oder Kupfer) und geeignet zur Erzeugung eines Gesamtionenstroms größer/gleich 50 mA, |
| Parts and accessories for apparatus for chemical vapour deposition on liquid crystal devices (LCD) substrates |
Teile und Zubehör für Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen (LCD) durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD-Verfahren) |
| Note:2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment specially designed for cutting or machining tools. |
Anmerkung:Nummer 2B005 erfasst nicht Ausrüstung für chemische Beschichtung aus der Gasphase, Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Ionenplattierung oder Ionenimplantation, besonders konstruiert für Schneidwerkzeuge oder für Werkzeuge zur spanenden Bearbeitung. |
| Separator module housings (cylindrical or rectangular vessels) for containing the uranium metal vapour source, the electron beam gun and the product and tails collectors; |
Behälter für Separatoren (zylindrische oder rechteckige Kessel) zur Aufnahme der Uranmetalldampfquelle, der Elektronenstrahlkanone und der Sammler für Product(angereichertes Uran) und Tails("abgereichertes Uran"), |
| Physical Vapour Deposition (PVD): Cathodic Arc Discharge |
Physikalische Abscheidung aus der Gasphase (PVD): Kathodenzerstäubung durch Bogenentladung (Arc-Verdampfen) |
| Chemical Vapour Deposition (CVD) |
Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) |
| Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate. |
Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) ist ein Verfahren zum Aufbringen von Auflageschichten oder oberflächenverändernden Schichten, bei dem ein Metall, eine Legierung, ein "Verbundwerkstoff", ein Dielektrikum oder Keramik auf einem erhitzten Substrat abgeschieden wird. |
| Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporize the coating material. |
Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen (TE-PVD = thermal evaporation physical vapour deposition) ist ein Beschichtungsverfahren zur Herstellung von Auflageschichten in einem Vakuum bei einem Druck von weniger als 0,1 Pa, wobei Wärmeenergie zum Verdampfen des Schichtwerkstoffes eingesetzt wird. |
| Thermal-Evaporation Physical Vapour Deposition (TE-PVD) |
Physikalische Beschichtung aus der Gasphase (PVD-Beschichten) durch thermisches Verdampfen (TE-PVD) |
| Note 2:6A001.a.1.c. does not control electronic sources which direct the sound vertically only, or mechanical (e.g., air gun or vapour-shock gun) or chemical (e.g., explosive) sources. |
Anmerkung 2:Unternummer 6A001a1c erfasst nicht elektronische Geräuschquellen, ausschließlich für Anwendungen mit vertikaler Richtwirkung, mechanische (z.B. air gun oder vapour-shock gun) oder chemische (z.B. Verwendung von Explosivstoffen) Geräuschquellen. |
| Atomic vapour "laser" isotope separation (AVLIS) plant; |
Isotopentrennanlagen nach dem atomaren "Laser"verfahren (AVLIS = Atomic Vapour Laser Isotope Separation), |
| Saturation vapour pressure of the dilution air |
Sättigungsdampfdruck der Verdünnungsluft |
| This includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition. |
Dies schließt Verfahren ein, bei denen neben der Ionenimplantation gleichzeitig das PVD-Beschichten mittels Elektronenstrahl und das Sputtern/Aufstäuben zur Anwendung kommen. |
| Apparatus for chemical vapour deposition on liquid crystal devices (LCD) substrates |
Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen (LCD) durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD-Verfahren) |
| ‘discharge lamp’ means a lamp in which the light is produced, directly or indirectly, by an electric discharge through a gas, a metal vapour or a mixture of several gases and vapours; |
„Entladungslampe“ bezeichnet eine Lampe, in der Licht direkt oder indirekt mittels einer elektrischen Entladung durch ein Gas, einen Metalldampf oder ein Gemisch verschiedener Gase und Dämpfe erzeugt wird. |
| Steam turbines and other vapour turbines (excluding for electricity generation) |
Dampfturbinen (ohne solche für den Antrieb von elektrischen Generatoren) |
| Polytetrafluoroethylene film, non-microporous, in the form of rolls, of a thickness of 0,019 mm or more but not more than 0,14 mm, impermeable to water vapour |
Polytetrafluorethylenfolien, nichtmikroporös, in Form von Rollen, mit einer Dicke von 0,019 mm oder mehr, jedoch nicht mehr als 0,14 mm, wasserdampfundurchlässig |
| equipment for the chemical vapour deposition of elements or compounds on heated filamentary substrates to manufacture silicon carbide fibres; |
Ausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate zur Fertigung von Siliziumkarbidfasern, |
| Liquid-liquid contacting equipment (mixer-settlers, pulsed columns, centrifugal contactors); and liquid distributors, vapour distributors or liquid collectors designed for such equipment, where all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed… |
:Flüssig-flüssig Kontakt-Ausrüstung (Mischer-Abscheider, Pulsationskolonnen und Zentrifugalextraktoren); und Flüssigkeitsverteiler, Dampfverteiler oder Flüssigkeitssammler, konstruiert für solche Ausrüstung, bei denen die medienberührenden Flächen ganz… |
| Deutsch |
English |
| Sprachgebrauch |
usage |
| MOCVD-(Metal-Organic-Chemical-Vapour-Deposition-) Reaktoren, besonders konstruiert für das Kristallwachstum von Verbindungshalbleitern aus der chemischen Reaktion zwischen Substanzen (Materialien, Werkstoffen), die von Nummer 3C003 oder 3C004 erfasst werden, |
Metal organic chemical vapour deposition (MOCVD) reactors specially designed for compound semiconductor crystal growth by the chemical reaction between materials specified in 3C003 or 3C004; |
| :Ausrüstung und Bestandteile, besonders konstruiert oder hergerichtet für Anlagen zur Isotopentrennung nach dem atomaren "Laser"verfahren (AVLIS = Atomic Vapour Laser Isotope Separation), wie folgt: |
Equipment and components, specially designed or prepared for atomic vapour "laser" isotope separation process (AVLIS), as follows |
| Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen (TE-PVD = thermal evaporation physical vapour deposition) ist ein Beschichtungsverfahren zur Herstellung von Auflageschichten in einem Vakuum bei einem Druck von weniger als 0,1 Pa, wobei Wärmeenergie zum Verdampfen des Schichtwerkstoffes eingesetzt wird. |
Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporize the coating material. |
| Anmerkung 2:Unternummer 6A001a1c erfasst nicht elektronische Geräuschquellen, ausschließlich für Anwendungen mit vertikaler Richtwirkung, mechanische (z.B. air gun oder vapour-shock gun) oder chemische (z.B. Verwendung von Explosivstoffen) Geräuschquellen. |
Note 2:6A001.a.1.c. does not control electronic sources which direct the sound vertically only, or mechanical (e.g., air gun or vapour-shock gun) or chemical (e.g., explosive) sources. |
| Isotopentrennanlagen nach dem atomaren "Laser"verfahren (AVLIS = Atomic Vapour Laser Isotope Separation), |
Atomic vapour "laser" isotope separation (AVLIS) plant; |
| :Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapour deposition) mit allen folgenden Eigenschaften: |
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following |
| Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) |
chemical warfare CW (for lasers) |
| Isotopentrennung nach dem atomaren Laserverfahren (Atomic Vapour Laser Isotope Separation) |
International Telegraph and Telephone Consultative Committee |
| :Herstellungsausrüstung für die physikalische Beschichtung aus der Dampfphase (PVD = physical vapour deposition) mittels Elektronenstrahl (EB-PVD) mit einer Stromversorgungsanlage von mehr als 80 kW Nennleistung und mit einer der folgenden Eigenschaften: |
electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over80 kW and having any of the following |
| Chemical vapour deposition (Chemische Beschichtung aus der Gasphase) |
chemical reaction by isotope selective laser activation CVD |
| Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) |
chemical reaction by isotope selective laser activation CVD |
| Isotopentrennung nach dem atomaren Laserverfahren (Atomic Vapour Laser Isotope Separation) |
CCITT International Telegraph and Telephone Consultative Committee |
| Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) |
EB-PVD electron beam physical vapour deposition EBU |
| Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen (electron beam physical vapour deposition) |
ETSI European Telecommunications Standards Institute FFT |
| :"speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapour deposition) mit allen folgenden Eigenschaften: |
"Stored programme controlled" chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following |
| :"speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die physikalische Beschichtung aus der Dampfphase (PVD = physical vapour deposition) mittels Elektronenstrahl (EB-PVD) mit einer Stromversorgungsanlage von mehr als 80 kW Nennleistung und mit einer der folgenden Eigenschaften: |
"Stored programme controlled" electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW, having any of the following |
| TNO-STB-Studie, abgeschlossen im November 1999. http://ec.europa.eu/enterprise/chemicals/studies_en.htm; Effectiveness of vapour retardants in reducing risks to human health from paint strippers containing dichloromethane. |
TNO-STB study finalised in November 1999, http://ec.europa.eu/enterprise/chemicals/studies_en.htm; Effectiveness of vapour retardants in reducing risks to human health from paint strippers containing dichloromethane by ETVAREAD expert group. |
| Isotopentrennung nach dem atomaren Laserverfahren (Atomic Vapour Laser Isotope Separation) |
the American Society for Testing and Materials ATC |
| Atomic Vapour Laser Isotope Separation (Isotopentrennung nach dem atomaren Laserverfahren) |
the American Society for Testing and Materials ATC |
