| Deutsch |
English |
| Sprachgebrauch |
usage |
| Teile von Apparaten zum physikalischen Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen (LCD) durch Kathodenzerstäubung (sputtering) |
Parts of apparatus for physical deposition by sputtering on liquid crystal devices (LCD) substrates |
| Apparate zum physikalischen Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen (LCD) durch Kathodenzerstäubung (sputtering) |
Apparatus for physical deposition by sputtering on liquid crystal devices (LCD) substrates |
| …Glas, versehen mit entweder einer porösen Folie und einer Infrarotlicht absorbierenden Folie oder mit einer durch Kathodenzerstäubung (sputtering) aufgebrachtenleitfähigen Schicht, auch ein- oder beidseitig mit einer Antireflexschicht versehen, zum Herstellen von Waren der Position 8528… |
…of tempered glass; provided either with a mesh film and a near-infrared absorbing film or a sputtered conductive layer, with optional additional anti-reflex layer on one or both sides, for use in the manufacture of products falling within heading 8528… |
| …laminierten Glasplatten, versehen mit entweder einer porösen Folie und einer Infrarotlicht absorbierenden Folie oder mit einer durch Kathodenzerstäubung (sputtering) aufgebrachten leitfähigen Schicht, auch ein- oder beidseitig mit einer Antireflexschicht versehen |
…of 2 sandwich plates laminated together; provided either with a mesh film and a near-infrared absorbing film or a sputtered conductive layer, with optional additional anti-reflex layer on one or both sides |
| Glasplatte mit einer Diagonalen von 81 cm oder mehr, jedoch nicht mehr als 186 cm, entweder mit einer porösen Folie oder mit einer durch Kathodenzerstäubung (‚sputtering‘) aufgebrachten leitfähigen Schicht zur EMC-Abschirmung und einer Infrarotlicht absorbierenden Folie ausgestattet, auch auf einer oder auf beiden Seiten mit zusätzlichen Antireflexschichten oder… |
Glass plate of a diagonal size of 81 cm or more, but not more than 186 cm, provided either with a mesh film or a sputtered conductive layer for EMC shielding and a near-infrared absorbing film, with optional additional anti-reflex/colour enhancement… |
| …Glasplatten, versehen mit entweder einer porösen Folie und einer Infrarotlicht absorbierenden Folie oder mit einer durch Kathodenzerstäubung (sputtering) aufgebrachten leitfähigen Schicht, auch ein- oder beidseitig mit einer Antireflexschicht versehen, zur Verwendung beim Herstellen von PDP… |
…of 2 sandwich plates laminated together; provided either with a mesh film and a near-infrared absorbing film or a sputtered conductive layer, with optional additional anti-reflex layer on one or two sides, for use in the manufacture of PDP videomonitors… |
| mit Kupfer auf einer oder beiden Seiten durch Kathodenzerstäubung (sputtering) metallisiert und mit raffiniertem Kupfer plattiert oder |
metallized by sputtering with copper and plated on one side or on both sides with refined copper or |
| mit Kupfer auf einer oder beiden Seiten durch Kathodenzerstäubung (sputtering) metallisiert, |
metallized by sputtering with copper on one side or on both sides, |
| …mit entweder einer porösen Folie und einer Flachglasfolie und einer Infrarotlicht absorbierenden Folie oder mit einer durch Kathodenzerstäubung (sputtering) aufgebrachtenleitfähigen Schicht, auch ein- oder beidseitig mit einer Antireflexschicht versehen, zum Herstellen von Waren der Position 8528 [1] |
…glass; provided either with a mesh film and a near-infrared absorbing film or a sputtered conductive layer, with optional additional anti-reflex layer on one or two sides, for use in the manufacture of products falling within heading 8528 [1] |
| Quecksilber als Kathode-Sputtering-Inhibitor in DC-Plasmadisplays mit einem Gehalt von bis zu 30 mg pro Display bis 1. Juli 2010. |
Mercury used as a cathode sputtering inhibitor in DC plasma displays with a content up to 30 mg per display until 1 July 2010. |
| mit Kupfer auf einer oder beiden Seiten durch Kathodenzerstäubung (sputtering) metallisiert, |
metallised by sputtering with copper on one side or on both sides, |
| mit Kupfer auf einer oder beiden Seiten durch Kathodenzerstäubung (sputtering) metallisiert und mit raffiniertem Kupfer plattiert oder |
metallised by sputtering with copper and plated on one side or on both sides with refined copper or |
| Die Ersetzung von Quecksilber als Inhibitor zur Vermeidung von Sputtering bei DC-Plasmadisplays mit bis zu 30 mg pro Display ist zurzeit technisch nicht praktikabel, dürfte aber spätestens ab 1. Juli 2010 machbar sein. |
Substitution for mercury used as a cathode sputtering inhibitor in DC plasma displays with content of up to 30 mg per display is currently technically impracticable, but should be practicable by 1 July 2010. |
