| Deutsch |
English |
| Sprachgebrauch |
usage |
| Herstellungsausrüstung für die Kathodenzerstäubungs-(Sputter-) Beschichtung, geeignet für Stromdichten von 0,1 mA/mm2 oder höher bei einer Beschichtungsrate größer/gleich 15 μm/h; |
sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more; |
| Aufgrund der elektrischen Inhomogenität des menschlichen Körpers sollten die Stromdichten über einen Querschnitt von 1 cm2 senkrecht zur Stromrichtung gemittelt werden. |
Because of the electrical inhomogeneity of the body, current densities should be calculated as averages over a cross-section of 1 cm2 perpendicular to the current direction. |
| Für Frequenzen bis 100 kHz und für gepulste Magnetfelder können die mit den Pulsen verbundenen maximalen Stromdichten aus den Anstieg- und Abfallzeiten sowie der maximalen Änderungsrate der magnetischen Flussdichte berechnet werden. |
For frequencies up to 100 kHz and for pulsed magnetic fields, the maximum current density associated with the pulses can be calculated from the rise/fall times and the maximum rate of change of magnetic flux density. |
| Für Frequenzen bis 100 kHz können die Spitzenwerte für die Stromdichten erhalten werden, indem der Effektivwert mit (2)1 |
For frequencies up to 100 kHz, peak current density values can be obtained by multiplying the rms value by (2)1 |
| Da die Expositionsgrenzwerte jedoch für schädliche Wirkungen auf das Zentralnervensystem gelten, können in anderen Körpergeweben als dem Zentralnervensystem unter den gleichen Expositionsbedingungen höhere Stromdichten zulässig sein. |
However, since the exposure limit values refer to adverse effects on the central nervous system, these exposure limit values may permit higher current densities in body tissues other than the central nervous system under the same exposure conditions. |
| "speicherprogrammierbare" Herstellungsausrüstung für die Kathodenzerstäubungs-(Sputter-) Beschichtung, geeignet für Stromdichten von 0,1 mA/mm2 oder höher bei einer Beschichtungsrate größer/gleich 15 μm/h; |
"Stored programme controlled" sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more; |
