| Deutsch |
English |
| Sprachgebrauch |
usage |
| alle Fotoresists, entwickelt zur Verwendung mit Röntgenstrahlen mit einer Empfindlichkeit besser/gleich 2,5 mJ/mm2; |
All resists designed for use with X-rays, with a sensitivity of 2,5 mJ/mm2 or better; |
| alle Fotoresists, optimiert für Oberflächen-Belichtungstechnologien einschließlich 'silylierter' Fotoresists (silylated resists). |
All resists optimised for surface imaging technologies, including 'silylated' resists. |
| Positiv-Fotoresists, entwickelt für die Halbleiter-Lithografie, besonders eingestellt (optimiert) für den Einsatz bei Wellenlängen kleiner als 350 nm; |
Positive resists designed for semiconductor lithography specially adjusted (optimised) for use at wavelengths below 350 nm; |
| alle Fotoresists, entwickelt zur Verwendung mit Elektronen- oder Ionenstrahlen mit einer Empfindlichkeit besser/gleich 0,01 µC/mm2; |
All resists designed for use with electron beams or ion beams, with a sensitivity of 0,01 µcoulomb/mm2 or better; |
| :Fotoresists wie folgt und "Substrate", die mit erfassten Fotoresists beschichtet sind: |
Resist materials, as follows, and "substrates" coated with controlled resists |
| alle Fotoresists, entwickelt oder optimiert für die Verwendung in von Unternummer 3B001f2 erfassten Anlagen für die Imprintlithografie, die entweder thermische oder lichtaushärtende Prozesse verwenden. |
All resists designed or optimised for use with imprint lithography equipment specified by 3B001.f.2. that use either a thermal or photo-curable process. |
