| Deutsch | English |
|---|---|
| Sprachgebrauch | usage |
| :Anmerkung:Unternummer 3B001f2 schließt ein: | Note:3B001.f.2. includes |
| alle Fotoresists, entwickelt oder optimiert für die Verwendung in von Unternummer 3B001f2 erfassten Anlagen für die Imprintlithografie, die entweder thermische oder lichtaushärtende Prozesse verwenden. | All resists designed or optimised for use with imprint lithography equipment specified by 3B001.f.2. that use either a thermal or photo-curable process. |