| Deutsch |
English |
| Sprachgebrauch |
usage |
| alle Fotoresists, entwickelt zur Verwendung mit Elektronen- oder Ionenstrahlen mit einer Empfindlichkeit besser/gleich 0,01 µC/mm2; |
All resists designed for use with electron beams or ion beams, with a sensitivity of 0,01 µcoulomb/mm2 or better; |
| Anmerkung 2: Ionenstrahlen mit niedriger Energie (weniger als 5 keV) können verwendet werden, um die Abscheidung zu aktivieren. |
2 Low-energy ion beams (less than 5 keV) can be used to activate the deposition. |
| :Anlagen, besonders konstruiert für die Maskenherstellung oder die Herstellung von Halbleiterbauelementen, die abgelenkte, fokussierte Elektronenstrahlen, Ionenstrahlen oder "Laser"strahlen verwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften: |
Equipment specially designed for mask making or semiconductor device processing using deflected focussed electron beam, ion beam or "laser" beam, having any of the following |
| Verwendung von abgelenkten, fokussierten Elektronenstrahlen, Ionenstrahlen oder „Laser“strahlen und |
using deflected focussed electron beam, ion beam or "laser" beam; and |
| Anmerkung 2:Ionenstrahlen mit niedriger Energie (weniger als 5 keV) können verwendet werden, um die Abscheidung zu aktivieren. |
N.B.2Low-energy ion beams (less than 5 keV) can be used to activate the deposition. |
