| das Verfahren der Diffusion (bei dem durch selektives Aufbringen eines geeigneten Dotierungsstoffes auf ein Halbleitersubstrat integrierte Schaltungen gebildet werden), auch wenn der Zusammenbau und/oder das Testen in einem in Artikel 3 nicht genannten Land stattfinden |
The operation of diffusion (in which integrated circuits are formed on a semi-conductor substrate by the selective introduction of an appropriate dopant), whether or not assembled and/or tested in a country other than those specified in Articles 3 and 4 |
