| Deutsch | English |
|---|---|
| Sprachgebrauch | usage |
| Anmerkung:Unternummer 2B226a erfasst keine Öfen zur Bearbeitung von Halbleiterwafern. | Note:2B226.a. does not control furnaces designed for the processing of semiconductor wafers. |
| Netzgeräte, besonders konstruiert für von Unternummer 2B226a erfasste Öfen, mit einer angegebenen Ausgangsleistung größer/gleich 5 kW; | Power supplies, with a specified power output of 5 kW or more, specially designed for furnaces specified in 2B226.a. |